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专精特新TOP100]至纯科技:立足高纯工艺技术 湿法设备订单量价齐升

发布时间:2024-01-28 21:09:15   来源:江南体育官网

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产品特色

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  引言:随着我们国家经济发展进入更加重视质量与创新的新时代,一批“专业化、精细化、特色化、新颖化”的企业慢慢的变成为我国创新的发源地。长期资金市场的发展也在与时俱进,北交所设立的核心目标之一就是为“专精特新”中小企业服务。为此,新浪财经推出“专精特新TOP100”系列报道,旨在挖掘一批主营业务聚焦,创造新兴事物的能力强,成长性高,专注于细分市场的小巨人。

  上海至纯洁净系统科技股份有限公司(以下简称“至纯科技”),成立于2000年,是一家在上交所上市的高新技术企业,公司从高纯工艺系统起步,逐步拓展半导体湿法清理洗涤设施、晶圆再生、光传感及光学元器件业务。子公司波汇科技被评定为第一批专精特新小巨人,至纯科技本身被评定为第二批专精特新小巨人。

  至纯科技基本的产品和服务包括高纯工艺系统、半导体湿法清理洗涤设施、光传感应用及相关光学元器件,大范围的应用于半导体、微电子、生物医药、光伏、光纤、TFT-LCD、LED等领域。

  目前公司高纯工艺系统正逐步实现系统、设备乃至元器件层的全面国产替代;湿法设备也已切入中芯国际、华虹集团等一线客户。

  围绕着国家产业高质量发展的方向,至纯科技抓住集成电路支柱产业的国产化机遇,以高纯工艺系统为出发点,不断扩充半导体领域产品线。

  截至目前,至纯科技主营业务最重要的包含高纯工艺系统、半导体湿法清理洗涤设施及光传感应用及相关光学元器件的研发、生产和销售,三项业务营收占比分别为63.12%、29.23%及7.45%。由此可见,高纯工艺系统收入规模最大。

  2015年,至纯科技开始启动湿法工艺装备、光传感及光器件的研发。随义务应用领域的拓展,2019年新纳入二项业务开始贡献收入,并取得显著的成绩。2021年上半年,半导体设备销售营收同比整增长254.02%。

  经过二十余载的努力,至纯科技已凭借技术资质优势、客户优势等,在市场上保持领先地位。

  技术资质方面:至纯科技重视研发创新,研发支出占比持续提升,研发支出占收入比重持续提升。公司研发支出由2016年的0.12亿元增加到2020年的1.5亿元,占收入比重由4.56%上升到10.74%。

  截至2021年上半年,公司专利申请455项(其中发明专利200项),已授权专利270项(其中发明专利65项),软件著作权142件。

  在高纯工艺领域,公司已形成了以不纯物控制的高纯工艺系统为核心,涵盖泛半导体、生物制药等下业前沿需求的核心技术体系,并成功完成了多项高纯工艺系统核心设备及相关控制系统软件的研发,利用自制设备与软件替代外购。

  在湿法设备领域,公司治理打造高端湿法设备制造开发平台,已具备生产8-12寸高阶单晶圆湿法清理洗涤设施和槽式湿法清理洗涤设施的相关技术。

  在光传感器与光电子技术领域,公司产品线丰富,在模式识别智能算法领域可以在一定程度上完成高精度、高响应、低延时的大数据分析能力。

  客户优势方面:凭借高纯工艺技术的先发优势,目前公司高纯工艺系统已经切入一线用户,用户有中芯国际、华虹华力、华润、士兰微、长江存储、长鑫存储、海力士,三星,台积电,力晶等等,是下业的领先者。

  半导体湿法设备领域客户有中芯国际、北京燕东、TI、华润等;光传感领域有国家电网、南方电网、中国石油、霍尼韦尔等知名企业。

  近年来,5G手机、无人驾驶和数据信息等需求激增,驱动半导体行业快速地增长。随着中国大陆下游电子科技类产品需求的爆发式增长和一系列政策的大力扶持,半导体产业中心正在由韩国、中国台湾向中国大陆转移。

  受益于集成电路产业高景气度,2021年上半年至纯科技高纯系统业务及半导体设备业务订单大幅度的增加,产品营销售卖量价齐升,营业收入同比+76.51%,归属于上市公司股东的净利润同比+395.51%。

  同时,公司整体业务新增订单17.2亿元,达到去年全年新增订单的88%。其中,整个半导体板块新增订单14.2亿元,已超过去年13.6亿元的订单规模,湿法设备新增订单4.3亿元,达到上一年度全年湿法设备订单的85%。

  清洗设备作为半导体专用设备,是生产各类半导体产品所需的生产设备,属于半导体行业产业链的支撑环节。

  随着半导体芯片工艺技术节点进入28纳米、14纳米等更先进等级,工艺流程的延长且越趋复杂,对杂志的忍耐性越低,小尺寸污染物的高效清洗显得很重要,每个晶片在整个制作的完整过程中需要甚至超过200道清洗步骤。

  因此,半导体工艺技术的进步亦推动半导体设备的发展,包含但不限于清洗设备。

  值得关注的是,半导体清洗是贯穿产业链的重要工艺环节,无论是半导体硅片制造、晶圆制造还是封装阶段,均要使用到,清洗工序的技术时影响芯片成品率、质量的必要因素之一。因此导体行业快速地发展,带动了至纯科技湿法设备订单大规模提升。

  在全球半导体清理洗涤设施方面,主要的湿法设备厂商以日本和欧美为主,国内目前有三家在湿法工艺设备端提供中高阶湿法制程设备,分别是至纯科技、北方华创和盛美,国内厂商的市场占比在逐年上升中。

  至纯科技提供的湿法设备主要包含湿法槽式清理洗涤设施及湿法单片式清理洗涤设施,应用于集成电路、微机电系统、平板显示等领域。目前至纯科技是国内能提供到28纳米节点全部湿法工艺的本土供应商。

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